目前搞光刻機的國家和企業不少，荷蘭的ASML當然是一枝獨秀，基本壟斷了目前高端光刻機的市場，基本上40nm以下的製程，廠商都願意採用ASML的光刻機。日本的佳能、尼康在光刻機產品上也算做得不錯，尼康甚至能生產號稱最大支持7nm製程的EUV光刻機。當然國內的廠商至少在我們認知中也在努力，比如上海微電也在研發支持28nm製程的光刻機。
不過荷蘭ASML的地位顯然短期內是無法動搖的。ASML正抓緊研發下一代高數值孔徑極紫外光（high-NA EUV）光刻機。之前AMSL透露，其存量EUV客戶均訂購了新一代裝置，也就是之前購買ASML EUV光刻機的晶片製造廠商，都已經在ASML下一代光刻機上下了訂單，除了我們已知的Intel和台積電，包括三星、海力士、美光等廠商也都已經購買了ASML下一代光刻機，只是按照順序等ASML生產裝配後發貨。
雖然因為經濟形勢導致整個半導體的行情不是太好，但是這些有能力生產晶片的廠商還是知道，至少在光刻機上的錢不能省，購買ASML下一代高端光刻機，這是讓自己保持技術優勢的前提。目前普通EUV能生產3nm工藝的晶片，未來想要進一步突破物理牆，就要靠ASML的下一代高端光刻機了。
這其中第一台high-NA-EUV光刻機是被Intel所購買，據悉會在2024年部署，2025年開始量產晶片，所以Intel也對自己的等同於1.8nm的晶片工藝信心滿滿。而台積電將於2024年引進下一代光刻機，估計也會在2nm及以下的工藝製程上。三星集團則表示要購買10台下一代光刻機，預備未來擴充記憶體、晶圓代工的產能可以擴大。
根據一些信息透露，目前UEV光刻機的單台售價已經接近2億美元，而下一代光刻機的單台售價更是達到了4億美元，折合人民幣大概27億元。很顯然在未來很長一段時間中，ASML將繼續在光刻機領域維持自己的優勢。儘管歐洲、日本一些廠商都表示要研發自己的2nm晶片工藝，但大概率也是購買ASML的設備才行。
至於大家關心的國產光刻機，可生產90nm製程的光刻機其實很早就已經研發出來，並號稱通過了驗收，但實際上我們之前了解的情況是只有一家廠商購買了這種光刻機，而且也不是用於生產，更像是面子工程。這種光刻機據悉是倒推ASML之前老技術的光刻機而來，說是國產但是大多數零部件也是從國外採購，而且由於技術原因，無論是良率和產能，都可以忽略不計，完全無法商用。
之前也有消息說上海微電自己研發的可支持28nm製程的光刻機，已經算是成功，這給了不少國人信心。但遺憾的是，據悉這種國產28nm的光刻機甚至無法通過檢驗，目前不說商用，能否達到正常使用都還是兩說。有小道消息表示，華為挖走了上海微電不少工程師，這個說法肯定是沒有官方回應的。但可以肯定的是，目前所謂的國產光刻機，是無法銷售給晶片製造廠商使用的，國內的晶片代工廠商未來只能繼續依賴海外的設備。
儘管我們一直表示要發展國內的晶片產業，但說實話這部分差距的確非常大，技術能力和製造能力和海外整個產業鏈相比，絕非一朝一夕可趕上，只能慢慢努力，而且還要考慮海外在技術發展上的速度，甚至連先進一些的國產晶片都還得靠海外的EDA設計軟體才能實現。最後我們只能表示拋開幻想腳踏實地吧，憑藉喊口號是沒法彌補巨大的差距的！