自從華為晶片事件以來，光刻機就成了很多人心目中的「明星」設備，作為晶片製造不可或缺的一環，其重要性不言而喻。
雖然我國也有不少光刻廠商，但相比荷蘭光刻巨頭ASML，整體卻是差之甚遠：ASML能生產高端EUV，而我們不能，即便是在中低端光刻領域，國產設備的良率、價格和市場認可度，都沒有任何優勢。
由於ASML產線上含有大量的美國配件和技術，在老美的干預下，它始終都無法對大陸市場出口最先進的EUV光刻機。導致的結果是，我們若想突破美芯的技術封鎖，就必須實現高端光刻設備的國產化。
為此，中科院、清北高校等科研機構，以及上海微電子、北京國望光刻等光刻廠商紛紛開始發力，全方位的加大了對國產光刻機的研發布局。在舉國上下的團結努力下，國產光刻機在近兩年不斷傳出這破冰的好消息，不僅攻克了光源、物鏡等先進技術，而且還不斷推出著創新型的中低端光刻產品。
沒想到這觸碰到了ASML的敏感神經，為了不被排除在中國市場之外，ASML一方面對老美發出警告，稱不把光刻機賣給中國，他們將會在五年之後完全掌握該技術，屆時，ASML將會有破產的風險。
另一方面，在無法出貨EUV設備的情況下，ASML有意增加中低端光刻設備對大陸市場的出口，甚至是低價傾銷。
據公開資料顯示，ASML在去年累計向大陸市場出口了57台光刻機，其中有部分老舊機型，也有部分是國內光刻廠商正在研發且快要取得突破的同類產品。值得強調的是，ASML近兩年還在我國密集申請了約3千項光刻專利。
明眼人都看得出來，ASML此舉並非是好心幫助我們完善半導體產業鏈，而是為了對國產光刻機實施降維打擊，甚至是構築專利壁壘，讓國內市場無法擺脫對它的依賴。
而ASML的目的也似乎是達到了。近日有消息傳來，在中企積塔半導體的光刻設備採購競標會上，ASML包攬了招標全部的3台光刻設備，其中有兩台是i-line光刻機，一台是Krf光刻機。相比之下，國內光刻廠商卻是顆粒無收。
難道是因為我們沒有同類光刻設備？恰恰相反，上海微電子在這兩個型號方面早就實現了突破，且核心技術完全自主可控。那麼為何在國產化替代的潮流下，積塔半導體會捨近求遠地選擇國外光刻產品呢？
原因或許有兩方面。首先，ASML在光刻領域深耕多年，不僅是全球唯一能生產高端EUV設備的廠商，而且在其他型號光刻設備方面，它的技術也同樣最為成熟和先進，設備也要比國產的好看好用。
更關鍵的是，其降價傾銷的策略奏效了。在大部分中低端光刻設備方面，ASML早就收回了相應的研發成本，擁有絕對的價格優勢，完全可以用價格來博市場，而國內光刻廠商顯然還做不到這一點。
其次，對國內晶片廠商而言，在經歷了「卡脖子」之痛後，雖然大家也都清楚，支持採購國產光刻設備能夠讓國內光刻友商實現利潤回流，從而形成繼續加大研發投入的良性循環。
但眾所周知，晶片製造屬於重資產領域，尤其是在設備方面的投資，達到了代工廠總成本的80%，也正是這個原因，以至於很多晶片廠商都不敢試錯，否則就會付出沉重的代價。所以，在設備選擇方面，它們首先考慮的不是價格，優先選擇的是已經證明過自己且產品廣泛被應用於市場的廠商合作。
因此，對於昂貴的光刻設備，如果不是在沒有辦法的情況下，任何晶片廠商都基本不會放棄與ASML的合作機會。
國內廠商在中低端光刻領域雖然也完成了相應的突破，但設備還沒有經過市場的「真金火煉」，是否好用、高效以及後期的調試效果都是未知。相比ASML物美價廉的設備，顯然缺乏競爭力。
此次積塔半導體的招標結果，可謂是結結實實的給國產光刻機澆了一盆冷水。或許很多網友都會對此表示遺憾，但從市場角度來看，成立僅五年時間的積塔半導體，在選擇上並沒有什麼不妥，一切都是未來企業的未來所考慮。
儘管國產光刻設備此次沒能得到中企的青睞，可這並無大礙，也不至於打擊到國內市場對光刻設備研發的積極性。知道了問題出在哪裡反而還是好事，接下來用心去解決就可以了。
在筆者看來，我們若想快速實現光刻設備的國產化替代，限制ASML在中低端設備方面對大陸市場的出口絕非明智之舉，而僅依靠國內光刻廠商在核心技術方面的不斷鑽研，也同樣是不夠的。
考慮到市場因素，光刻廠商最好是能與下游的晶圓廠商展開更為密切的合作，就像台積電之於ASML的關係一樣，參與到其相應的研發工作之中，形成深度綁定的效果。只有這樣，才能讓國產晶片企業打消的後顧之憂，義無反顧地支持國產設備，從而攜手促進國產光刻領域的快速崛起。