「我們不是設計不出世界頂級的晶片，只不過是國內沒有能夠造出高端晶片的企業罷了。」「晶片禁令」出台後，華為創始人任正非在接受央視採訪時道出了「中國芯」的無奈。
正如任正非所言，國內擁有華為海思等一大批優秀的晶片設計企業，但中芯國際等國內晶片製造企業由於EUV光刻機被卡了脖子，即便是掌握了媲美5nm工藝的「N+2」晶片製程工藝，也無法實現高端晶片的規模量產。
光刻機是製造晶片的關鍵設備，尤其是7nm及以下製程晶片的製造，就必須使用到EUV光刻機，由於EUV光刻機的製造需要集結全人類的智慧，目前世界上只有荷蘭ASML公司能夠生產，但由於使用到了大量來自美半導體企業的技術和元器件，在老美的阻撓下，ASML公司即便是在四年前收了中芯國際的EUV光刻機貨款，至今也未能履行合同。
近一年來，老美為了限制「中國芯」的發展，不斷向ASML公司施壓，要求其加強對中企28nm及以下工藝光刻機的出口管控，雖然遭到了ASML公司的拒絕，但中企再也很難順利的從該公司手裡採購到先進的光刻機。
老美利用對EUV光刻機的技術主導優勢，打壓華為等他國高新技術企業的行為，讓各國徹底認清了老美的真面目，在全球範圍內掀起了「技術去美化」浪潮，開始研發、打造不含美半導體技術和設備的半導體產業鏈。
近日，沉寂已久的世界半導體產業開始「熱鬧」起來，多家美媒毫不諱言地表示：EUV光刻機的時代開始落幕了！
美媒的這種觀點不但不存在貶低ASML公司的意思，反而很中肯，講述了未來幾年世界半導體行業的發展走勢。
首先，隨著晶片製程工藝的更新疊代，摩爾定律的影響愈發明顯，傳統矽基晶片的發展已經到了物理極限，即將走到盡頭。各大科技巨頭在發展傳統晶片的同時，不斷加大量子晶片的科研投入，並且取得了不錯的成績，如華為，掌握了一項解決量子比特之間相互干擾的量子超導技術，我國首條光子晶片生產線將在明年建成並實現規模量產。
對量子晶片有一定了解的朋友都知道，量子晶片在功耗、數據處理等方面都要優於矽基晶片，一旦實現商用，必將加速傳統矽基晶片的淘汰。
其次，為了滿足電子產品對晶片高性能的需求，各大晶片巨頭開始從封測環節下手，台積電聯合了19家晶片巨頭成立了「3D Fabric」聯盟，大力發展3D封裝技術，且小有成就，如AMD最近推出的一款GPU採用的就是3D封裝工藝，在沒有EUV光刻機的情況下，性能得到了巨大的提升。
值得一提的是，國內晶片封測巨頭通富微電成功掌握5nm「芯粒」技術，加速了晶片封測技術的發展。
第三，佳能、鎧俠等多家日企成功研發出納米壓印微影（NIL）工藝技術，採用該工藝技術的晶片性能提升20％，製造成本降低40％，且將在2025年實現規模量產。
這多條重磅消息，無一不在證明EUV光刻機不再是製造高性能晶片的必備設備，且性能、成本等方面更有提升的巨大空間。
當今世界半導體行業正在面臨著百年未有之的大變局，希望國內半導體企業不斷加大科研投入，縮短「中國芯」爬坡、破冰的時間，爭取在新的時代來臨之前，掌握更大的半導體行業話語權，讓中企在今後的商業競爭中具備「掀桌子」的實力和底氣。