「國內並不缺乏優秀的晶片設計企業，晶片設計能力全球領先，只不過是國內沒有能夠製造高端晶片的企業罷了。」老美對華為晶片環節進行制裁後，華為創始人任正非接受央視記者採訪時說出了「中國芯」的現狀。
眾所周知，晶片製造是一項龐大的項目工程，需要使用到EUV光刻機、蝕刻機等一百多套高尖端設備，以及大量的軟體和化學材料，需要集中全球半導體產業鏈的力量。我國之所以遲遲無法獨自製造出高端晶片，主要還是EUV光刻機被卡了脖子。
在光刻機領域，荷蘭ASML公司擁有著絕對的話語權，壟斷著全球EUV光刻機市場，決定著台積電、三星、英特爾等晶片製造企業高端晶片的走向。
雖然在過去的幾年裡，ASML公司明確表示不會「脫離」中國市場，將會加強與中企的合作，幫助中企提升晶片製造能力，但由於該公司製造的EUV光刻機使用了大量來自美國的半導體技術和元器件，即便是收了中芯國際等國內晶片製造企業EUV光刻機的全額貨款，也不能向這些企業發貨。
據公開數據顯示，ASML公司所製造的EUV光刻機所使用的美國技術和元器件的比例高達30％，也正是因為這個原因，老美才有了挾「人類智慧的結晶」令世界「晶片」的實力和底氣。
老美對於EUV光刻機近乎歇斯底里的管控，引起了ASML公司的極度不滿，該公司CEO彼得・維尼克曾多次向老美發出警告：如果不賣給中國EUV光刻機，用不了幾年，中國人就會找到有效地解決方案，拉下EUV光刻機時代的帷幕。
近期，世界半導體行業傳出多條重磅消息，直接驗證了彼得・維尼克的預言，EUV光刻機時代開始「落幕」！
首先，即將成為「美積電」的台積電牽頭成立了「3D Fabric」聯盟，大力發展3D封裝技術。據美媒報導的信息顯示，美國晶片巨頭AMD利用台積電的3D封裝工藝，在沒有EUV光刻機的情況下，量產了一款GPU晶片，且性能較之上一代提升35％，功耗降低20％。
值得一提的是，我國封測巨頭通富微電掌握了世界領先的5nm「芯粒」技術，英偉達等多家美企為了降低「晶片禁令」的影響，直接與5nm通富微電簽署了長達幾年的合同。
其次，美光繞開EUV光刻機製造出了能效提升25%、存儲密度提升30%、功耗降低20%的高性能DRAM晶片，日本佳能、鎧俠聯手成功研製出納米壓印微影（NIL）工藝技術，將高端晶片的製造成本降低了40%左右。
第三，華為等國內多家科技巨頭髮布了量子晶片技術，國內首條光子晶片生產線明年即將實現規模量產，加速了「下一代晶片」的商用。
如今，隨著傳統晶片製造工藝的更新疊代，摩爾定律的影響愈發明顯，在沒有尋找到解決摩爾定律的有效辦法之前，傳統矽基晶片很難有大的突破，光子晶片、量子晶片將成為未來主要的晶片。
當然了，現階段的「中國芯」仍處於爬坡、破冰階段，我們要堅持「兩條腿走路」的策略，在大力發展下一代晶片的同時，要積極解決傳統晶片「卡脖子技術」，夯實「中國芯」的根基，做到它無我有、它有我優，徹底打破美芯的封鎖，讓任何人都不敢輕易地欺負我們。