等離子清洗設備常用的工藝氣體有氧氣.氬氣.氮氣.壓縮空氣.二氧化碳.氫氣.四氟化碳等。等離子清洗設備是對氣體電離產生的等離子體進行清洗活化改性處理，達到最佳的處理效果，今日我們一起了解相關的工藝氣體。
一.氧氣：氧氣是等離子清洗常用的活性氣體，屬於物理+在化學處理中，電離產生的離子體可以物理轟擊表面，形成粗糙的表面。同時，高活性氧離子可與斷鍵後的分子鏈發生化學反應，形成活性基團的親水表面，達到表面活化的目的；
二.氫氣：氫類似於氧氣，屬於高活性氣體，可以激活和清潔表面。氫與氧的區別主要是反應後形成的活性基團不同，氫具有還原性，可用於去除金屬表面的微氧化層，不易損壞表面敏感的有機層。
三.氮氣：氮氣電離形成的等離子體可以與一些分子結構發生關鍵反應，因此它也是一種活性氣體，但與氧氣和氫氣相比，它的粒子相對較重。通常，這種氣體將在等離子體清洗機的應用中定義為活性氣體氧氣.氫與惰性氣氬之間的一種氣體。
等離子清洗設備處理的優點有如下：
1.在需要粘合之前，根據工藝選擇通過微波等離子源進入的反應氣體，然後離子和其他物質與表面有機污染物發生化學反應，形成廢氣被真空泵抽出，經過測試，清潔前後的表面張力發生了很大的變化，有助於提升表面的粘結力；
2.噴塗前等離子清洗處理，提高噴塗效果；
低溫等離子體技術在氣體污染物處理方面具有顯著的優勢。其基本原理是在電場加速的作用下產生高能電子。當電子平均能量超過目標處理的分子化學鍵能時，分子鍵斷裂，以清洗氣體污染物。