目前，半導體產業已經成為世界各國追求的主要產業之一，而光刻技術作為半導體領域的世界領先工藝，更是受到大眾的追捧，因此多年來，世界各國的專業學者不斷尋求光刻技術的發展，試圖在半導體領域的發展中找到突破口。
而目前通過世界各國企業的努力，荷蘭ASML公司大規模生產的EUV光刻機，可以看作是世界上最領先的技術，原來世界各國可以依靠荷蘭提供的EUV光刻機發展自己的半導體產業，但天真的中國，由於受到美國的限制，無法得到EUV光刻機。現在馬上要到2023年了，我國在光刻領域的發展又有哪些變化？
多年來，為了發展半導體產業，各國紛紛投入數億研發光刻技術，但多數國家收效甚微，畢竟光刻技術的研發本身就是一項艱巨的任務，光刻技術作為晶片生產的必備工具，也是未來智能家居和網際網路時代不可跳過的一大環節。
而現在中國的情況則給其他國家敲響了警鐘，中國由於缺乏掌握高精尖晶片的研發能力，導致中國在這一領域不斷受到來自其他國家的政治限制，中國企業在此期間的利潤損失嚴重。
高端晶片領域的發展停滯不前，迫使中國在雕刻機發展領域停滯不前，而改變這種狀況的方法是走上自主研發的道路。
但光刻機的發展並不容易，畢竟目前的光刻機基本上有兩種類型，分別是DUV光刻機和EUV光刻機，而前者更多體現在低端晶片的開發和製造上，如我們上面提到的東芝佳能和荷蘭ASML，都有這樣的生產能力，但用於生產高精度醫療晶片的微光刻機卻只掌握在ASML手中。
EUV光刻技術的發展需要大量的技術專利作為基礎，更重要的是，它還有數以萬計的零部件，需要全世界幾十個國家來供應，這個極其繁重的生產鏈迫使幾個沒有基本工業製造生產鏈的國家停下來。
而且我們知道，如果不能走自主研發的道路，卡脖子的局面是無法改變的，而中國的光刻研發現在已經走到了什麼程度？
經過三年來不斷的限制和卡脖子告訴我們，自主研發光刻機的難度確實很高，但這是我們必須走的路。而在這條發展道路上，必須投入大量的資金，中國大陸有很多的研發人員，也有很多人。雖說上海微電子的光刻機性能突出，但這種性能最強的還是上海微電子，上海微電子將光刻機分為幾個板塊，他們打算按照這些板塊的不同特點來逐一攻克，現在上海微電子在這個領域已經取得了相當大的成績，並且在28納米光刻機工作過程中取得了光刻機，他們已經在28納米光刻機過程中取得了一些成績，這讓ASML對他們表示敬佩。
除此以外ASML還提到，只要再給上海微電子5年時間，光刻行業的核心雕刻機就不再是只掌握在自己手中的秘密，其實現在除了一些國內企業還在堅持走傳統路線外，也有一些企業已經開闢了新的發展道路。
他們正試圖以不同的方式來完成那些只能由光刻技術完成的操作，以通富微電為例，他們想繞過光刻技術路線，然後實現5納米工藝晶片的量產，但整體晶片系統仍需繼續縮小，至於南大光電也直接專注於光刻技術領域，其也開展了光刻技術的自主研發，這有助於我們擺脫 這有助於我們擺脫對這些外國公司的依賴。
現在不僅我國企業注重通過繞過光刻技術來解決光刻技術的發展問題，而且一些國外企業也打算採用同樣的方法來擺脫對ASML公司生產的紫外光刻技術的高度依賴。
在全球範圍內，EUV光刻技術不僅是中國大型企業的難題，也是多個國家需要攻克的技術難關，因此光刻技術生產晶片已經成為多個國家的主要發展方式，例如，蘋果公司現在使用晶片耦合技術完成M1Pro晶片的生產。而我國也趁機選擇了專注於光子晶片和核心粒子的技術，利用這兩項技術擺脫了因對傳統光刻技術的依賴而陷入的困境，而我國現在專注於的新實力技術是利用多個高精度堆疊的晶片，可以開發出性能更優異的晶片。
在此之前的許多年裡，中國在高精度晶片領域不斷受到其他國家的壓制和脅迫，但現在中國終於在這個領域取得了突破，光刻技術的生產將不再是行業秘密。