第二隻靴子終於落下了——在美國宣布美日荷三方晶片協議之後，具體的協議內容卻一直處於煙籠霧繞的狀態，誰也看不清內容的真相是什麼。但是在3月8日作為參與方之一的荷蘭終於發布了正式表態：將會對「最先進」的半導體設備進行封鎖（The Dutch government has said it will impose export restrictions on the 「most advanced」 semiconductor technology）。
其中著重提到了「DUV」（深紫外線）這項技術，這是僅次於「EUV」（極紫外線）之外最為先進的光刻機，也被國內眾多晶片廠商所廣泛採用，在28nm等成熟製程中擁有廣泛的使用前景。
根據ASML的財報顯示，自2014年開始向中國出售了超過80億美元的DUV光刻機設備。按照DUV光刻機平均一台1000萬左右的價格計算，這也就意味著在8年的時間中，累計出售的DUV光刻機數量為800台,平均每年向中國出售的光刻機數量高達100台，這其實已經是一個不小的數目了。
那麼為什麼會說800台光刻機受到影響呢？因為荷蘭方面的聲明中留下了一個重大的問題點——在新的出口管制措施開始施行之後，之前已經出售的800台光刻機的維護服務也成為了一樁懸案。
作為最精密的儀器，光刻機從來不是一錘子買賣，生產不同製程、不同種類的晶片也都需要重新對光刻機進行調整。而由於DUV光刻機中帶有防止「逆工程化」的模塊，因此一旦不經過ASML的允許而擅自調整，那麼這台光刻機就有報廢的風險。
那麼為什麼ASML不得不接受美國提出的三方晶片協議？這也和ASML自己曾經的選擇有關。在21世紀初，為了擊敗尼康和佳能這兩大主要光刻機競爭對手，作為後來者的ASML加入了由包括英特爾、IBM、AMD在內的美企主導的EUV LLC聯盟，並由此獲得了EUV技術，因此也成為全球僅有的有能力製造EUV光刻機的廠商。
EUV光刻機技術讓ASML後來居上成為全球最大的光刻機設備製造廠商，但同時也成為了ASML最大的枷鎖——作為加入EUV LLC付出的代價，ASML必須從美國廠商處採購占比為50%的零件。
這也是ASML不得不接受晶片三方協議的根本原因。但是在荷蘭公布三方協議之後，ASML面對巨大損失的同時並沒有坐以待斃，而是做出了自己的解釋。對於最先進的設備（「most advanced」），ASML認為是TWINSCANNXT：2000i及後續推出的浸潤式光刻系統，先進程度相對較低的浸潤式光刻系統已能很好滿足成熟製程為主的客戶的需求。
這實際上也是ASML在加入晶片協議之後給出自己的條件——TWINSCANNXT：2000i以及更先進的光刻機可以如美國所願斷供，但是比其落後的光刻機則不應該在斷供之列。可以說ASML為了保住自己的利潤也是煞費苦心。
晶片協議造成的影響首當其衝就是包括中芯國際、華虹國際在內的晶片製造廠商。不僅僅是獲取新光刻機的難度增加，已有光刻機的維修和維護同樣成為巨大的難題。
但正所謂走的人多了就有了路，ASML的決定也將倒逼上海微電子等國產光刻機廠商的進步和發展。以往很多廠商迷信ASML的技術和名聲，如今在國產光刻機成為唯一選擇之後，也將帶來更多的訂單和利潤。通過將利潤投入到研發中去，國產光刻機突破的那一天終將到來。