中國將可買到100台DUV光刻機？這純屬於瞎猜測嗎？
今天就來科普一下這個消息。
先來科普一下這個「DUV光刻機」，簡單地說就是用來製造晶片的光刻機，簡單地說就是製造晶片用的機器。
DUV光刻機是唯一一種可以生產出7 nm以下晶片的光刻機，它也是唯一一種可以生產出14 nm以下晶片的光刻機。可以說，沒有任何一種機器，可以做到比 DUV光刻機更高級別的工藝。
為什麼這麼說呢？因為 DUV光刻機生產出來之後，並不能馬上用，需要經過曝光、顯影、刻蝕三個步驟。這樣做的目的是保證 DUV光刻機能夠穩定工作，避免因為機器故障而造成生產延誤。
至於為何中國要購買100台 DUV光刻機？
中國的晶片製造需要
中國製造2025計劃中提出，要在2030年，中國要實現晶片自給率達70%的目標。為了達成這一目標，我們需要使用到光刻機、材料、設計等多個方面的支持。
首先我們需要擁有自主研發的晶片製造技術，目前我們所使用的晶片，全部都是進口的。包括製造晶片所用的光刻機，也是由荷蘭 ASML公司生產製造。而其中最為關鍵的零件就是光源組件。
要想實現「國產替代」，我們需要打造一套屬於自己的光刻機工藝，只有這樣我們才能擁有完全屬於自己的晶片製造技術。
其次我們需要用到其他材料來支持晶片生產所需。例如我們需要用到光刻膠、高純度矽粉等原材料來製造晶片。
提升中國半導體技術的核心競爭力
其實在中國晶片發展的這條路上，我們遇到的阻力很大。
要知道半導體行業的人才是非常稀缺的，即便是像台積電這樣全球最大的半導體公司，在全球範圍內也只有萬名左右的晶片設計人員和幾萬名工程師。
所以在半導體行業，人才是第一生產力。
其次就是資金，在國內半導體行業投資並不像海外投資那麼容易，畢竟中國在半導體行業投資只有3000億人民幣左右，而全球半導體市場卻高達萬億美元。
不過我們還是堅持了下來，因為我們必須要重視這條路，不能再走國外的老路了。
除了人才和資金之外，中國晶片產業還需要掌握核心技術才行。
為了搶占全球半導體產業發展先機
作為一個國家，沒有強大的自主研發能力，就不能擁有核心技術，也就無法與國際巨頭競爭。
要知道，半導體產業是全球各國的重點發展產業之一，也是目前科技領域最有發展前景的技術。
早在2019年，美國為了在半導體領域超過中國，就以「晶片法案」為藉口，要求包括台積電在內的部分晶片生產企業遷移至美國本土。
該法案通過之後，將導致全球90%的半導體設備被美國壟斷。
另外一方面，為了保持領先地位，中國也開始布局光刻機等半導體設備產業。
在2021年2月舉行的中國半導體行業協會年會上，就明確提出了要加大對光刻機、刻蝕機等設備的投資力度。
更好地實現國產化
而對於我們國內來說，未來100台 DUV光刻機，主要用於光刻機、 LED晶片、傳感器、集成電路等半導體產業，能夠有效地實現國產化。
如果沒有了這些半導體產業的支持，我們國內的半導體產業，很有可能會受到國外廠商的打壓，這對於我國未來半導體產業的發展不利。
在這種情況下，購買100台 DUV光刻機，能夠給我國的半導體產業提供一定的幫助。
同時，100台 DUV光刻機，還能有效地提高我國在全球半導體產業鏈上的話語權。
可以說，購買100台 DUV光刻機對於中國來說是非常有必要的一個舉措。
當然了，以上這四點只是我個人的一些看法。