光刻機是製造晶片的重要工具，在各國開始重視晶片發展的背景下，也因此將光刻機當作主要的研究方向。
雖然光刻機屬於高度全球化的產業鏈成果，但如果能從光刻機的某個零部件領域取得技術積累，同樣是意義非凡的。而隨著國內傳來一些「破冰」消息，被人解讀為國產7nm晶片要來了，專家表態：認清現實吧。
EUV光刻機是生產7nm晶片的關鍵設備，雖然DUV光刻機通過多重曝光也能觸及7nm，但如果能得到EUV光刻機的支持，基本上就事半功倍了。
全球唯一能生產EUV光刻機的廠商是荷蘭ASML，只不過這家公司需要遵守市場規則，無法實現EUV光刻機的自由出貨。
至於DUV光刻機，恐怕在美日荷達成協議的情況下，也存在諸多變數。種種情況來看，恐怕就需要靠自己了。而光刻機市場傳來一則動向，引起了不小的關注。
這則動向來自哈爾濱工業大學發布了一項「高速超精密雷射干涉儀」研發成果，可以在350nm到28nm製程內實現光刻機的樣機集成研製工作。
消息一出，在業內便被解讀為光刻機迎來「破冰」，國產7nm晶片要來了。先不說該項技術的實際應用情況如何，能否用在7nm製程，單單是光刻機的組成部分就十分繁雜。
能生產7nm晶片的EUV光刻機需要10萬個零部件，如果僅一項技術破冰就能代表整體的話，人類就不會花費幾十年的時間深耕鑽研了。
所以就突破本身感到高興是可以的，但如果盲目解讀，脫離現實的話就未必可取了。而且專家也發出了認清現實的論調，一切還需從實際出發。
根據中國科學院院刊刊登的一篇《加強半導體基礎能力建設，點亮半導體自立自強發展的「燈塔」》文章顯示，由於西方的行動措施，中國半導體發展進入「黑暗森林」。
在文章中強調，半導體物理是一切半導體技術的源頭，從第一次的量子革命誕生出了雷射器，電晶體等器件。在半導體領域內的11項成果中獲得了9項諾貝爾物理學獎。基於物理學，人類突破了巨大的晶片成就。
而文章中關於「黑暗森林」的解釋，主要闡述了尋找發展方向的重要性。
包括在晶片設計、製造、封裝三大環節中所涉及的EDA軟體，半導體設備和化學試劑等等。這些晶片的上中下游任何一個技術，配件都有可能成為制約競爭者的手段。
「黑暗森林」這一理論出在劉慈欣的《三體》小說，講述了宇宙中每一個文明都是帶槍的獵人，不論帶有怎樣的目的，都不能發出一點聲音。
而放在晶片行業中，則強調了找不到方向。為解決這一問題，就需要定下目標。
以物理學為例，在晶片行業中物理可以說是基礎中的基礎，一切半導體技術基本上都離不開物理規則。
摩爾定律強調的「集成電路可容納電晶體數量每隔兩年會翻倍」的概念也是物理現象。通過先進的晶片製造技術，不斷微縮晶片線寬，提高電晶體密度。
但電晶體終究離不開物理規則的束縛，摩爾定律已經接近極限。如果想要突破物理規則，那麼就得從新工藝、新架構、新材料入手。
可是該如何從各類新的方向中尋找解決方案，成為急需求解的答案。值得一提的是，業內已經在嘗試創新突破了。國內延伸出來的小晶片技術就是一個解決方案，通過晶片堆疊，改變電晶體組合方式來提高晶片性能。
其餘的量子晶片，光子晶片也是破冰的方向，能否實現彎道超車尚未可知，但已經提供了發展思路。
至於光刻機，恐怕在後摩爾時代發揮出的效果十分有限。因為新工藝，新材料會採用另一種製造方式，對於高端先進光刻機已沒有太大的依賴。當然，這並不意味著要放棄傳統光刻機的發展。
不管怎麼說，傳統的矽基晶片依舊是主流，很難實現替代，只能做到多種晶片解決方案並行發展。
簡單來說，國內晶片需要在「黑暗森林」中找到方向，在摩爾定律面臨極限的情況下，尋求更多的解決方案。這需要一步一個腳印，用長時間的積累和沉澱，換來最終的厚積薄發。
在這個過程中，對於「破冰」的消息還需結合實際情況，切記盲目自嗨，認清現實，才能做出理性，正確的判斷。
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