雖然美國之前已經強制要求ASML向我們斷供EUV光刻機，後來又要求美國企業斷供14納米以下其他晶片設備，但現在又打算擴大斷供規模，要求ASML在DUV光刻機上也斷供，同時要求日本也對我們斷供相關的晶片設備。
國產晶片退至90nm工藝
從晶片技術的發展史看，不同的工藝代表不同的歷史階段和技術水平。隨著工藝的不斷進步，集成度不斷提高，晶片性能逐步增強。現在國產晶片由於受到斷供的影響，現有的28納米和16納米工藝不得不放緩產能。工藝不得已退回到了90納米水平。這充分說明了當前技術封鎖對於中國半導體行業的巨大震動。
為了解決現有的尷尬局面，中國本土晶片設備廠商也在努力發展和改造現有技術，爭取獲得對高端晶片製造的自主掌控力。在這些設備廠商中，光刻機廠商則成了最受關注和看好的一類企業。
可以說，光刻機是製造晶片不可或缺的重要工具，它是半導體製造過程中最核心的裝備之一。目前，全球光刻機市場被三大巨頭ASML、Nikon、Canon所壟斷。受技術所限，國內目前尚未有能夠完全代替進口光刻機的本土品牌。
根據多方數據顯示，上海微電子90nm光刻機可以製造出65nm晶片，但是良品率已經很低了。
是不是意味著中國晶片能力只有90nm呢
晶片是高度全球化的產業，是人類智慧的結晶，每個國家地區都在晶片全球化中扮演重要角色。不過由於一些國家頻繁干擾晶片行業的市場秩序，給晶片全球化帶來諸多變數。
從EDA軟體到EUV光刻機，再到晶片原材料，幾乎都有對應的規則束縛。這不僅讓人好奇，假如遭遇了全面斷供，以國產廠商能夠量產90nm製程光刻機的條件，是不是意味著中國晶片能力只有90nm呢？
只能說這個說法有些片面了。首先要分清純國產和國產的概念。
前者代表的是任何一個生產製造的環節幾乎都採用自研技術。後者指的是基於全球化產業鏈，採購了國外的半導體設備，然後在國產廠商自主技術的加工處理下，實現產品的支持。
純國產可以做到90nm，但國產的話中芯國際已經能實現14nm晶片量產了。了解了這一改變，再來回答假設的疑問就不難得出答案了。
那就是即便遭遇了全面斷供，中國晶片的能力也不止90nm，而是能夠根據掌握的國產技術和已經採購的設備來完成晶片加工製造。
通俗點講，國產廠商從ASML手中採購了可生產14nm晶片的DUV光刻機，那麼以後就能持續生產下去。
不管其他國家是怎樣的態度，都不會影響已購的半導體設備持續使用。