晶片製程進入臨界點，現款EUV光刻機能夠支持3nm晶片的批量生產，但更為先進的2nm需要更為高檔的EUV光刻機設備，才有可能實現。

在這方面,ASML進行了公開的官宣，新的EUV光刻機將於2024年正式發貨，並且每台售價將近26億人民幣。這麼貴的裝備，亮點是什麼？新的設備已經到來，舊的EUV光刻機是否可以自由發貨？

加速新一代EUV光刻機研發

晶片製造技術更新疊代的時間非常快，2020年還是7nm技術，到了現在已經用上了4nm工藝。而且台積電還會在今年下半年量產3nm，再往後的2nm也規劃到2025年量產。

可以說晶片納米製程的工藝節點都是有明確規劃的，在研發，量產之前會先明確量產時間，好規劃產能目標。為了跟上晶片製造商的進度，ASML必須加速新一代EUV光刻機的研發了。

按照台積電的計劃，到2025年量產2nm。因此ASML新一代的NA EUV光刻機要在2025年進入量產狀態。關於新一代的NA EUV光刻機，ASML正式官宣了。

據ASML表示，在NA EUV光刻機方面取得了良好的進展，目前已經收到了來自三個邏輯晶片和兩個存儲晶片客戶的NA EUV光刻機訂單。

在NA EUV光刻機的時間規劃方面，外媒報導這款光刻機會在2023年亮相原型機，然後到2025年正式量產。此時ASML已經獲得了5家客戶的意向訂單，看起來還是備受追捧的。可真的是這樣嗎？

ASML明年交付新一代EUV光刻機

台積電，三星是全球第一，第二大晶片製造商，二者的晶片製造技術代表人類最高的晶片生產水平。

目前台積電實現了5nm，4nm等晶片的穩定量產，而三星在今年6月底就成功進入3nm量產狀態。台積電也會按照計劃，在下半年進入3nm量產。不過4nm，3nm不是晶片製程的終點，摩爾定律還沒有就此結束，在3nm以下還能實現更先進的2nm。

而ASML新一代的High-NA EUV 光刻機會成為生產2nm晶片的關鍵設備。

自從ASML研製High-NA EUV 光刻機以來，進度遠超想像。今年7月份ASML透露收到了機械投影，光源以及晶圓載物台等核心元器件。

這意味著供應商已經在配合ASML的生產需要，積極供貨。就在9月底，ASML進一步傳來消息，正式官宣明年向客戶交付首台High-NA EUV 光刻機。這台光刻機最高或可生產1nm晶片，當然，最終能否造得出來，還得看晶片製造商的技術。

ASML還說過，已經拿到了5台High-NA EUV 光刻機的預付訂單。但ASML並沒有透露這些客戶的信息。

雖然不難猜測英特爾，三星和台積電會搶購High-NA EUV 光刻機，可是其它半導體公司也會採購High-NA EUV 光刻機用於研究用途。而且英特爾，三星和台積電這三大巨頭一時半會還無法造出2nm晶片，所以明年獲得High-NA EUV 光刻機首發訂單的客戶，未必會拿來生產晶片。