落後就要追趕,國產光刻機再次突破!將追趕荷蘭ASML

照理話財商 發佈 2020-06-13T20:38:04+00:00

要解開這些疑問,我們就要先來了解生產晶片的核心設備——光刻機。好消息是,上海微電子將在明年交付首台製程28納米的光刻機,今年還將運用ArF光源,製造出11納米的光刻機,這意味著我國的高科技公司在研發高精度光刻機的道路上,離ASML的差距又縮小了一步。

在美國對華為的制裁浪潮中,以晶片為代表的高端產品就一直是我們關注的焦點。晶片難造嗎?中國為什麼會擔心晶片行業的制裁?這樣的疑問,近來常伴隨著中美貿易戰大大小小的新聞,被網友們提起。要解開這些疑問,我們就要先來了解生產晶片的核心設備——光刻機。

首先要指出,美國商務部昨天一個新規、今天一個新規的,威脅到的主要是晶片的生產和進口渠道。以華為、中興為代表的我國電信公司,其晶片設計技術並不落後,華為的5G SoC晶片方案甚至超過了歐美國家研發的步伐。但是他們需要代工廠的幫助才能造出晶片。

就在5月16日,美國商務部又開始刁難我們了:任何出口給華為的產品、賣給華為的技術,只要使用了任何比例的美國企業的專業技術,就必須要向美國商務部申請並被批准才能出口。在美國技術通知統治製造業的晶片行業,這條新規相當於掐住了華為生產晶片的道路,台積電、聯發科紛紛表示不會「特殊照顧」華為。因此給華為提供晶片,這個重任一定是由中國的晶片製造商扛起的。

要實現高端晶片自產,技術層面的短板真正是光刻機。光刻機是晶片或者說半導體工業中最至關重要、最難以製造的設備,堪稱工業桂冠。目前世界上最大的光刻機製造商是荷蘭的ASML,它壟斷了80%的光刻機銷售額,在定價和供給方面牢牢掌握了話語權。之前為華為代工的台積電,就使用著荷蘭ASML的光刻機。

與歐美相比,我們的光刻機技術差距有多大?在精密程度上,ASML的第五代EUV極紫外光光刻機的製程,也就是光刻精度達到了5納米和7納米,相比之下中國光刻機的製程只能達到90納米,技術差距有至少一代的代差。

ASML有如此的實力,離不開韓國、日本、美國等國的公司的入股和通力合作,離不開它幾十年的技術積累,離不開幾百家歐美日韓公司的零件供應和技術整合。這些因素的累加才成就了荷蘭ASML的技術實力。

即便技術先進如美國,也無法以一己之力生產出來。ASML當然也擁有自家的真技術,但是更強大的是其技術整合能力和專利數量。一台ASML的光刻機,需要美國的Cymer公司的光刻機光源,需要德國的Zeiss也就是我們熟悉的蔡司的鏡頭,而這些公司都與ASML有穩定的合作關係。


而如今中國企業受到美國商務部「實體清單」和「新規」的阻撓,集合不了各種先進的部件和技術,現階段是造不出能與ASML相媲美的光刻機的。就算是能製造14納米製程晶片的中國代工企業,中芯國際,其高端設備也要從ASML進口,同樣受到了美國的阻撓,拿不到ASML的7nm級EUV光刻機。

既然不好買,那我們可以造出來嗎?中國目前最有能力追趕技術差距的企業,是上海微電子公司。用數字來衡量研發實力的話,這家公司有2500多項專利,占據國內市場八成份額。上海微電子還是全球四大光刻機製造商之一,但還威脅不到ASML的絕對領先優勢。

上海微電子雖然在國內市場占據重要的供應地位,但是放眼全球,它還只是專注於中低端市場。它目前只能生產製程90納米的光刻機,和前面提到的ASML的7納米級別相比,難以望其項背。

落後就要追趕,我們的技術發展快嗎?好消息是,上海微電子將在明年交付首台製程28納米的光刻機,今年還將運用ArF光源,製造出11納米的光刻機,這意味著我國的高科技公司在研發高精度光刻機的道路上,離ASML的差距又縮小了一步。

雖然我國在光刻機領域起步晚,而且在發展期受到了外部的阻攔,但還是孕育出上海微電子這樣的企業。在被美國制裁的今天,這無疑會給缺少外援的華為帶來新的希望。

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