本報記者 於布林 北京報導
當地時間3月8日，荷蘭貿易大臣Schreinemacher在寫給議會的一封信件中確認，荷蘭將跟隨美國限制出口與半導體有關的先進技術，這一出口限制有可能在2023年的夏季開始實施。她在信中還提及，內閣將制定一份管制清單。
這封信中未提及中國，以及總部設在荷蘭的全球最重要的光刻機製造企業阿斯麥公司（ASML）。不過，3月9日上午，ASML相關負責人向《中國經營報》記者確認了這一消息。
ASML在回複本報記者詢問的聲明文件中表示，由於荷蘭政府的這項法令，ASML將需要申請出口許可證才能發運最先進的浸潤式DUV系統（以下簡稱「DUV」）。ASML方面強調，荷蘭政府新的出口管制措施並不針對所有浸潤式光刻系統，而只涉及所謂「最先進」的浸潤式光刻系統。
不過，荷蘭政府目前並未明確「最先進」的定義。ASML方面傾向於將這一標準理解為「關鍵的浸潤式光刻系統」，即TWINSCAN NXT：2000i及後續推出的浸潤式光刻系統。
TWINSCAN NXT：2000i 是ASML生產的一款用於半導體製造的光刻機。它是TWINSCAN NXT系列產品的一部分，採用了EUV光刻技術（以下簡稱「EUV」），可用於生產高性能的微處理器和存儲器晶片，該產品於2014年推出。ASML方面稱，自2019年以來，ASML的EUV光刻系統已經受到限制。
DUV和EUV都被用於半導體晶片製造中的光刻技術，分別是「深紫外光」（Deep Ultraviolet）和「極紫外光」（Extreme Ultraviolet）的縮寫。EUV較DUV更為先進，是一種波長較短的電磁輻射，波長在10納米左右，可以比傳統的光刻技術實現更高的解析度和更複雜的晶片結構，但技術難度大、價格昂貴。DUV的電磁輻射波長在200~400納米之間，可以實現較高的解析度和較低的成本，但是DUV技術的解析度和精度有限，只能用於製造相對簡單的晶片結構。
記者了解到，ASML DUV產品的主要客戶之一是三星和SK海力士，這兩家公司在中國內地投資設有晶片工廠。
ASML表示，這些管制措施需要一定時間才能付諸立法並生效。該公司預計這些管制措施不會對已發布的2023 年財務展望以及於2022年11 月投資者日宣布的長期展望產生重大性影響。ASML還強調，先進程度相對較低的浸潤式光刻系統已能很好滿足成熟製程為主的客戶的需求。
業內將14納米晶片製造工藝視為「先進位程」的門檻，14納米以上被視為成熟製程，14納米及以下被視為先進位程。2022年10月，美國出台新的晶片技術出口管制措施，其中重要內容之一，就是以14納米為標準，限制相關工藝、設備、涉及軟體、服務等對華出口。約一個月後，美國官員前往荷蘭，討論擴大出口管制事宜。
2023年1月，ASML在一份聲明中稱，已知悉幾國政府間就達成一項側重於先進位程晶片製造技術的協議有了最新進展，其中將包括但不限於先進位程的光刻系統。
北京時間3月9日，針對荷蘭計劃出台的出口管制措施，外交部發言人毛寧表示，對荷方以行政手段干預限制中荷企業正常經貿往來的行為表示不滿，已向荷方提出交涉。近年來，美國為剝奪中國發展權利、維護自身霸權，泛化國家安全概念，將經貿科技問題政治化、工具化，脅迫誘拉一些國家對華採取出口限制措施。有關霸凌霸道行徑嚴重破壞市場規則和國際經貿秩序，不僅損害中國企業合法權益，也嚴重衝擊全球產業鏈供應鏈穩定和世界經濟發展，中方對此堅決反對。
她強調，希望荷方秉持客觀公正立場和市場原則，尊重契約精神，不濫用出口管制措施，維護國際產業鏈供應鏈穩定和自由開放的國際貿易秩序，維護中荷兩國和雙方企業共同利益。
對於在新的出口管制措施實施前完成出口的DUV設備，ASML能否繼續為這些客戶提供維修維護服務的問題，ASML回複本報記者詢問時表示：基於我們目前的了解，此次新的出口管制將限制新的設備和備件的運送。
「ASML的長期展望的基礎是全球長期需求和技術趨勢，而不是對具體地域的預期。」ASML方面表示。
（編輯：孟慶偉 校對：顏京寧）