我國在整體的技術發展上，其實是有相應的缺陷，由於技術實力方面的原因，讓我們難以和歐美國家達到持平的水準，在這種運行模式之下，自然也有了一定的限制，但中國畢竟需要有更多的技術發展來進行支撐，不然的我們就很容易會受到限制，在整體發展領域，最為明顯的一點就是我國的晶片製造。
在晶片製造上最大的短板就是我們沒有辦法製造EUV光刻機，而l在之前討論這一問題的時候，中國也放出狠話，將會在三年的時間中真正的製造出來，現在距離這一時間也已經沒有多久了，那麼中國的進度怎麼樣了呢？
關於2023年中國是否能夠擁有uv光刻機這一話題，也引發了很多人的討論，畢竟實力上的成見，讓中國有了更多地運用可能，但是能不能夠突破EUV方面的限制呢？
我國在晶片製造領域最為短缺的就是光刻機的研製，這項技術一直都被荷蘭的ASML公司所控制，在美國對中國實施晶片制裁的那一時段當中，他們也直接對河南下了狠話，不准對中國實施以及提供這樣的資源發展。
正是由於這樣的運用，才讓中國更加難以突破，但畢竟實力發展有所基礎，所以中國當時也放出狠話，將會在三年的時間之內就製造出屬於我們自己的光刻機。
雖然有狠話放出，但是這一領域並沒有這麼好突破，要想有更多的優勢，也需要有一定的成見，實力上的發展也會有更多的可能性，但也有一點那就是必須和自己的能力相匹配，不然的話就很容易會造成限制，我國在EUV光刻機上的研製進展究竟如何呢？
其實想要完全突破EUV光刻機並不容易，最主要的一點就是我們想要有更小的一些精準度的晶片製造，目前，中國所掌握的EUVv l光刻機製造出的納米量級比較小。
關於更小的七納米，14納米這些都比較難以突破，所以說才容易被美國所拿捏，但隨著中國的狠話放出以及中國晶片製造公司的飛速發起，也讓世界對於我們有了新的認知。
在這種持續性的呈現之下，我們有了更多的發展可能，而中國雖然說在EUV光刻機上面沒有辦法達到最小量級，但是我們還有另外一項研究，那就是中國的DUV光刻機。
DUV光刻機對比於之前的傳統光刻機來說，有一部分的發展不同，但這也意味著中國可以在這方面進行更好的突破，由於發展形式上的不一樣，所以我們就可以有更多的可能，但中國在第一位光刻機上的發展也同樣讓大家都為他捏了一把汗。
目前看來，根據中國所放出的三年之內擁有光刻機的狠話，也僅僅只有一年多的時間，在這過半的時間當中，中國是否能夠創造優勢，也有了更多的懷疑。
光刻機的製造是突破晶片發展方面的一大重要抓手，如果有更好呈現的話，優勢也更多，但畢竟是其他國家進行了技術封鎖的一個領域，所以說在實力呈現上就會有一定的限制。按照這種發展模式看，中國應該是有底氣產生，但畢竟和頂尖的光刻機製造還有一定的差距，所以在後續的一年多時間當中，我們也會做整體的推進。
但其實在晶片事業發展上，大家也不必做過多的擔心，因為雖然我們在光刻機領域一直受到限制，但是這並不意味著我們毫無運用實力，我們還有光子晶片的發展，這些都意味著我們有一定實力上的展現，畢竟如果沒有相應支撐的話，晶片事業就會直接被其他國家所卡脖子，EUV微光刻機的突破並沒有這麼好實現，但光子晶片就是一種不需要，光刻機來進行支撐的晶片研究方向。
如果單看現在的發展的來看中國的優勢也比較明顯，但如果想要完全地依靠這一發展領域來進行改變的話，也並沒有這麼容易。
EUV光刻機的突破，但中國在晶片事業發展上並沒有孤注一擲，把所有的希望都放在了光刻機上，我們還有其他研究領域的共同進行三年的時間，看來已經不遠了。就目前的發展來看，其實中國應該能夠實現這一豪言壯志，畢竟依舊實力有效估計我們已經有所突破，現在需要的是做數據上的提升。